В России создали первый отечественный литограф
Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) разработал фотолитограф для производства микросхем с разрешением 350 нм. Установка, созданная при участии белорусской компании «Планар», уже прошла государственные испытания. Ее ключевой особенностью стал твердотельный лазер, впервые использованный вместо ртутной лампы. Хотя 350-нм техпроцесс считается устаревшим, оборудование может найти применение в автомобильной и военной сферах. ЗНТЦ также работает над фотолитографом для 130-нм техпроцессов, который планируют завершить к 2026 году.
